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            微波等離子去膠機

            簡要描述:微波等離子去膠機(兼容SU-8及PI干法去膠)就是通過利用這些活性組分的性質進行氧化、還原、裂解、交聯和聚合等物理和化學反應改變樣品表面性質,從而優化材料表面性能,實現清潔、改性、刻蝕等目的。

            • 產品型號:SPV-100MWR
            • 廠商性質:生產廠家
            • 更新時間:2023-09-13
            • 訪  問  量:1742

            詳細介紹

            品牌晟鼎產地類別國產
            應用領域化工,生物產業,能源,電子,印刷包裝設備尺寸1230×1800×1100mm(寬×高×深)
            重量450kg微波電源頻率2.45G
            功率1000W系統控制PLC
            交流電源規格AC380V,50/60Hz,5?線,30A
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              1. 光刻膠的去除:
             
              除微波等離子去膠機(兼容SU-8及PI干法去膠)微波等離子清洗相比其他技術形式的等離子清洗方式,有著一致性高,對產品無害,清洗*的優點。在光刻膠的去除應用中,微波等離子清洗可以相當容易完成,而且完成效果很好。
             
              2. SU-8的去除/ 犧牲層的去除:
             
              Alpha Plasma Asia微波等離子清洗設備可以輕松完成對SU-8光刻膠的安全清除。有研究所實驗室以及生產應用的大量案例證明微波等離子清除SU-8和犧牲層是非常成功的。微波等離子去膠機(兼容SU-8及PI干法去膠)
             
              3.高分子聚合物的去除:
             
              只需要通過Alpha Plasma Asia微波等離子清洗設備的簡單處理,就能通過微波產生的自由基將高分子聚合物*清除干凈,包括在很深且狹窄尖銳的溝槽里的聚合物。達到其他清理方式很難完成的效果。
             
              4.等離子去除殘膠/去浮渣/打底膜:
             
              我們都知道一個物理常識,如果孔洞轉角尖銳,金屬液體是很難流進去的。那是因為尖銳的轉角增加了它表面的張力,從而影響了金屬液體流動。而等離子可以將很深洞中或其他很深地方將光刻膠的殘留物去除掉。
             
              等離子清洗工藝研究:
              在微組裝中,等離子清洗是一個非常重要的環節,它直接影響到所組裝功能模塊的質量,等離子清洗工藝在微組裝工藝中主要應用在以下兩個方面。
             ?、冱c導電膠前:基板上的污染物會導致基板浸潤性差,點膠后不利于膠液平鋪,膠液呈圓球狀。使用等離子清洗可以使基板表面浸潤性大大提高,有利于導電膠平鋪及芯片粘貼,提高芯片粘接強度。
             ?、谝€鍵合前:芯片粘貼到基板上后,經過高溫固化,其上存在的污染物可能包含有微顆粒及氧化物等,這些污染物使引線與芯片或基板么間枯附性差,造成鍵合強度不夠。在引線鍵合前進行等離子清洗,會顯著提高其表面活性,從而提高引線鍵合強度。
             
              等離子清洗工藝試驗:
              微組裝中等離子清洗對象主要有芯片鍵合區、基板語盤、引線框架、陶瓷基片等。本試驗選用基板進行清洗,基板焊盤表面誕銀、已氧化,采用微波等離子清洗機對基板進斤清洗試驗,選用氮氫混合氣體作為清洗工藝氣體,在清洗過程中氫等離子體能夠有效地去除基板焊盤上的氧化物。通過試驗,有效地控制清洗時的壓力、功率、時間及氣體流量等工藝參數,能夠獲得良好的清洗效果。
             
             

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